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日本限制23种半导体设备和材料明细

发布时间:2023.06.05


日本今天开始正式限制23种半导体设备和材料出口给我国的企业,清单如下:
DUV光刻机
感光胶
化学机械抛光设备
离子注入设备
气相化学气相沉积设备
热氧化设备
外延设备
磁控溅射设备
离子束刻蚀设备
低介电常数材料
高纯度氢氟酸
氮气
氟化氢
高纯度氮气
高纯度氧气
高纯度氩气
高纯度氦气
高纯度氢气
高纯度二氧化硅
高纯度氯气
高纯度氟气
高纯度氟化氢
高纯度氢氟酸


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